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[LED曝光機]即電子束曝光機是集電子光學,電氣,機械,真空,計算機技術等于一體的復雜的半導體加工設備.常見曝光機舉例:MYCRO美國制造的恩科優（N&Q）紫外曝光系統,適用于從特殊大小的基片到4尺寸很寬廣范圍材料的紫外或深紫外光曝光.NXQ400-6系統成功地應用于半導體制造,光電電子,平板,射頻微波,衍射光學,微機電系統,凹凸或復晶設備和其他要求精細印制和精度對準的應用.

LED曝光機是指通過開啟燈光發出UVA波長的紫外線,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質的表面上的設備.

[LED曝光機]的分類:

曝光機一般根據操作的簡便性分為三種,手動,半自動,全自動

A 手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;

B 半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧;

C 自動: 指的是 從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要.

LED曝光機性能指標:

光刻機的主要性能指標有:支持基片的尺寸范圍,分辨率,對準精度,曝光方式,光源波長,光強均勻性,生產效率等.

分辨率是對曝光工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式.曝光的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源,光刻系統,光刻膠和工藝等各方面的限制.

對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度.曝光方式分為接觸接近式,投影式和直寫式.

曝光光源波長分為紫外,深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等.

[LED曝光機]工作原理:

在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物（通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠）進行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學性質發生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形.

LED曝光機曝光機的應用:

更廣范圍（UV,DUV,NUV）的紫外光波長選擇,出射光強范圍: 8mW/cm2~40mW/cm2

支持恒定光強或恒定功率模式.

廣泛應用于半導體,微電子,生物器件和納米科技領.常見曝光機舉例:MYCRO美國制造的恩科優（N&Q）紫外曝光系統,適用于從特殊大小的基片到4尺寸很寬廣范圍材料的紫外或深紫外光曝光.NXQ400-6系統成功地應用于半導體制造,光電電子,平板,射頻微波,衍射光學,微機電系統,凹凸或復晶設備和其他要求精細印制和精度對準的應用.

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